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C-25型單面光刻機 高精度主要用于中小規(guī)模集成電路、半導體元器件、聲表面波器件的研制和生產(chǎn)。由于本機找平機構(gòu)先進，找平力小、使本機不僅適合硅片、玻璃片、陶瓷片、銅片、不銹鋼片、寶石片的曝光，而且也適合易碎片如砷化鉀、磷化銦等基片的曝光以及非圓形基片和小型基片的曝光。